REACTIVE PULSED MAGNETRON SPUTTERING OF TITANIUM – INFLUENCE OF PROCESS PARAMETERS ON RESISTIVITY AND OPTICAL PROPERTIES

Abstract

Titanium nitride and titanium oxide thin films were deposited by pulsed DC reactive magnetron sputtering. In this paper the influence of reactive gas partial pressure on the properties has been studied. The process control was realized by tracking the changes in the power supply parameter – circulating power. Presented technology enables free modification in the chemical composition, from titanium–rich to stoichiometric and overstoichiometric materials. The electrical and optical properties of titanium compounds were measured and then evaluated for possible electrode applications. Thanks to the special power supply and process control, it was possible to deposit low resistivity thin films without additional substrate heating and with high deposition rate. Presented technology is suitable for substrates with low temperature resistance. <br/><br/>

Authors and Affiliations

Katarzyna Tadaszak

Keywords

Related Articles

O MOŻLIWOŚCI ZASTOSOWANIA WYSOKOTEMPERATUROWYCH CZUJNIKÓW HALLA OPARTYCH O InSb W DIAGNOSTYCE MAGNETYCZNEJ TOKAMAKA ITER

W artykule przedstawione zostały wyniki badań nad napromieniowaniem neutronami struktur halotronowych bazujących na antymonku indu (InSb). Część próbek została napromieniowana w strumieniu neutronów termicznych (widmo na...

REZYSTANCJA TERMICZNA DIOD LED A WIARYGODNOŚĆ DANYCH KATALOGOWYCH

Współczesne diody LED charakteryzują się imponującymi parametrami eksploatacyjnymi, zarówno w odniesieniu do generowanych strumieni świetlnych, jak i sprawności przetwarzania energii elektrycznej. Jednak w wielu przypadk...

WSTĘPNY MODEL POLOWY SILNIKA INDUKCYJNEGO ZASILANEGO NAPIĘCIEM ZAWIERAJĄCYM SUBHARMONICZNE

Artykuł dotyczy modelowania polowego silnika indukcyjnego klatkowego zasilanego napięciem zawierającym subharmoniczne. Zaprezentowano wstępny dwuwymiarowy model polowy silnika zaimplementowany w środowisku ANSYS Maxwell....

ANALIZA DZIAŁANIA ALGORYTMU OPTYMALIZACJI GLOBALNEJ DIRECT

W pracy dokonano oceny użyteczności algorytmu "branch-and-bound" do rozwiązywania wybranych zadań optymalizacji. Przeprowadzono symulacje dla wybranych zadań testowych o różnej złożoności i liczbie wymiarów.

WYBRANE SPOSOBY MINIMALIZACJI ŁĄCZENIOWYCH STRAT ENERGII W WYSOKONAPIĘCIOWYCH TRANZYSTORACH MOSFET PRACUJĄCYCH Z TWARDĄ KOMUTACJĄ

W artykule przedstawiono wybrane sposoby ograniczania łączeniowych strat energii w tranzystorach MOSFET pracujących z twardą komutacją. Głównym źródłem strat energii w tym procesie jest ładunek wsteczny diod zwrotnych k...

Download PDF file
  • EP ID EP68371
  • DOI -
  • Views 115
  • Downloads 0

How To Cite

Katarzyna Tadaszak (2013). REACTIVE PULSED MAGNETRON SPUTTERING OF TITANIUM – INFLUENCE OF PROCESS PARAMETERS ON RESISTIVITY AND OPTICAL PROPERTIES. Proceedings of Electrotechnical Institute Prace Instytutu Elektrotechniki, 60(261), 5-13. https://europub.co.uk/articles/-A-68371