ВПЛИВ ЛЕГУВАННЯ Si КВАНТОВИХ ТОЧОК AlAs/InAs У ГЕТЕРОСТРУКТУРАХ AlAs/InAs/GaAs

Abstract

Для дослідження впливу легування були виготовлені сонячні елементи з квантовими точками InAs/GaAs у проміжній зоні, пролеговані Si. Присутність домішок Si в квантових точках призводить до покращення ефективності внаслідок розширення спектру в інфрачервону область та наявності вбудованого заряду. Були виміряні вольт-амперні характеристики та спектри фотоЕРС. Виявлено, що легування збільшує струм в зворотному напрямку, проте зменшує сигнал фотоЕРС.

Authors and Affiliations

М. С. КОВАЛЬОВА

Keywords

Related Articles

ФОРМУВАННЯ ІЗОТИПНОГО ГЕТЕРОПЕРЕХОДУ ZNO/SI

Досліджено початкові стадії росту плівки ZnO на поверхні Si при кімнатній температурі методами AFM, XRR, XRD, SIMS, I-V та C-V. Показано, що діодна характеристика гетероперехіду ZnO/Si утворюватися лише при досягненні пе...

ХАЛЬКОГЕНІДНІ СТЕКЛА ЛЕГОВАНІ ДРІБНОДИСПЕРСНИМ ZnS:Mn

В роботі проведенні дослідження халькогенідних стекол As-S, легованих дрібнодисперсним ZnS:Mn. Частинки сульфіду цинку вводились в халькогенідне скло двома способами: в процесі синтезу, і введенням частинок в розплав скл...

ПЕРЕНЕСЕННЯ ДОМІШКОВИХ АТОМІВ У НЕОДНОРІДНОМУ ПОЛІ МІКРОНАПРУЖЕНЬ ТЕКСТУРОВАНИХ ПОЛІКРИСТАЛІВ

З позиції вирішення статистичної крайової задачі мікромеханіки неоднорідних середовищ запропоновано математичну модель дифузійного перенесення домішок у неоднорідному полі мікронапружень. Розглянуто дифузійне перенесення...

ПРУЖНІ ВЛАСТИВОСТІ МЕТАЛЕВОГО СКЛА Ni

У даній роботі вивчені температурні залежності констант пружності металевого скла Ni методами молекулярної динаміки (МД) та розраховані константи пружності у кристалічному стані і стані скла в інтервалі температур 0-700К...

РАДІОЧАСТОТНИЙ ІНДИКАТОР ШПИГУНСЬКИХ ПРИСТРОЇВ

Розглянуто розроблений та запропонований пристрій для виявлення шпигунських пристроїв.

Download PDF file
  • EP ID EP539917
  • DOI -
  • Views 171
  • Downloads 0

How To Cite

М. С. КОВАЛЬОВА (2018). ВПЛИВ ЛЕГУВАННЯ Si КВАНТОВИХ ТОЧОК AlAs/InAs У ГЕТЕРОСТРУКТУРАХ AlAs/InAs/GaAs. ЕЛЕМЕНТИ, ПРИЛАДИ ТА СИСТЕМИ В ЕЛЕКТРОНІЦІ, 2(), 21-23. https://europub.co.uk/articles/-A-539917