WPŁYW KSZTAŁTU NAPIĘCIA ZASILANIA NA PARAMETRY ŚWIETLNE I ELEKTRYCZNE NISKOCIŚNIENIOWYCH RTĘCIOWYCH LAMP WYŁADOWCZYCH
Journal Title: Proceedings of Electrotechnical Institute Prace Instytutu Elektrotechniki - Year 2014, Vol 61, Issue 267
Abstract
Niskociśnieniowe rtęciowe lampy wyładowcze są podstawowym źródłem światła w oświetleniu przemysłowym. W ostatnich latach coraz powszechniejsze staje się stosowanie elektronicznych układów stabilizacyjno-zapłonowych zamiast stateczników elektromagnetycznych. W znacznym stopniu rośnie także liczba odbiorników nieliniowych pracujących w sieci zasilającej. Nagromadzenie dużej liczby odbiorników nieliniowych może prowadzić do odkształcenia napięcia w sieci. Odkształcenia generowane przez odbiorniki nieliniowe mogą powodować zakłócenia w pracy innych urządzeń, m.in. aparatury zabezpieczeniowej, czy innych odbiorników, np. lamp fluorescencyjnych zasilanych przez stateczniki elektroniczne. W artykule omówiono wpływ kształtu napięcia sieci zasilającej na parametry świetlne i elektryczne niskociśnieniowych rtęciowych lamp wyładowczych zasilanych przez elektroniczne układy stabilizacyjno-zapłonowe.<br/><br/>
Authors and Affiliations
Antoni Różowicz, Marcin Leśko
Keywords
Related Articles
- EP ID EP68505
- DOI -
- Views 85
- Downloads 0
THIN FILM PHOTOVOLTAIC SOLAR CELLS DEVELOPMENT
Thin film photovoltaics is one of the fastest growing indus-trial field in the last few years. The development of the second and third generation of the solar cells is presented in this work, especially changes and a fas...
MASA NIERESOROWANA ORAZ NOWE KONCEPCJE TECHNOLOGICZNE W NAPĘDACH BEZPOŚREDNICH
W artykule omówiono wpływ masy nieresorowanej na bezpieczeństwo w czasie jazdy i obsługę urządzeń w pojeździe elektrycznym. Przedstawiono stan zaawansowanych prac oraz stopień wdrożenia modułów przeznaczonych do sterowan...
TESTER PANELI FOTOWOLTAICZNYCH
Elektrownie fotowoltaiczne składają się z paneli łączonych elektrycznie w układzie szeregowo-równoległym. Naturalny produkcyjny rozrzut technologiczny powoduje różnice w użytecznych parametrach elektrycznych. W Zakładzie...
HIGH RATE DEPOSITION OF THIN FILM COMPOUNDS – MODELING OF REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING PROCESS
Deposition of compound thin films with reactive magnetron sputtering method causes a lot of difficulties, of which the main ones are the instability of the process and decrease of the deposition rate. Computer simulation...
MODELOWANIE TRÓJMODUŁOWEGO UKŁADU DC-DC Z PRZEKSZTAŁTNIKAMI TYPU DAB POŁĄCZONYMI SZEREGOWO-RÓWNOLEGLE
W pracy przedstawiono opis analityczny i wyniki badań symulacyjnych modelu dynamicznego wielomodułowego przekształtnika DC-DC, złożonego z podwójnych mostków aktywnych (DAB). Rozpatrywana topologia charakteryzuje się sze...