WYZNACZANIE STRAT I SPRAWNOŚCI TRÓJFAZOWYCH SILNIKÓW INDUKCYJNYCH KLATKOWYCH – NOWE WYMAGANIA NORM
Journal Title: Proceedings of Electrotechnical Institute Prace Instytutu Elektrotechniki - Year 2012, Vol 59, Issue 258
Abstract
W pracy przedstawiono metodę wyznaczania strat i sprawności silników indukcyjnych klatkowych według normy polskiej PN-EN 60034-2-1:2008. Podano wymagania dotyczące dokładności przyrządów, procedurę przeprowadzania badań oraz wyznaczania wartości strat i sprawności. Zwrócono uwagę na nowe elementy wprowadzone w procedurze obliczania strat i sprawności wpływające na dokładność wyznaczania sprawności.
Authors and Affiliations
Elżbieta OGONOWSKA-SCHWEITZER
Keywords
Related Articles
- EP ID EP187712
- DOI -
- Views 47
- Downloads 0
BADANIA PORÓWNAWCZE SAMOCHODOWYCH ŻARÓWEK REFLEKTOROWYCH
Na rynku oferowanych jest wiele odmian samochodowych żarówek reflektorowych. Teoretycznie ich parametry są określone wymaganiami regulaminów homologacyjnych. W ciągu ostatnich lat wzrasta i poszerzana jest oferta żarówek...
SYMULACJA PROCESÓW ELEKTROMAGNETYCZNYCH I CIEPLNYCH W UKŁADACH NADPRZEWODNIKOWYCH
W artykule przedstawiono opis i metodę symulacji procesów elektromagnetycznych i cieplnych występujących w taśmach i masywnych próbkach nadprzewodnikowych. Specyfika zjawisk występujących w nadprzewodnikach, wynikająca m...
ANALYSIS OF ARC IN A VACUUM CHAMBER WITH AN AMF
Vacuum circuit breaker chambers (VCBC) are subject of a continuous study to optimize parameters of circuit breakers. The aim is to reduce the size and to increase the breaking ability in the whole range of rated voltages...
INVESTIGATION OF THE MAGNETIC FIELD DISTRIBUTION ON THE SURFACE OF AMF CONTACTS
The axial magnetic field distribution (AMFD) on the contact surface plays an important role in short circuit current interruption. To minimize erosion of the contact the AMFD should be uniformly distributed over the cont...
REACTIVE PULSED MAGNETRON SPUTTERING OF TITANIUM – INFLUENCE OF PROCESS PARAMETERS ON RESISTIVITY AND OPTICAL PROPERTIES
Titanium nitride and titanium oxide thin films were deposited by pulsed DC reactive magnetron sputtering. In this paper the influence of reactive gas partial pressure on the properties has been studied. The process contr...